龙虎榜：日本出台半导体设备出口管制措施！国产替代有望加速 天天最新

2023年5月24日，周三，龙虎榜解析。

今日市场焦点

(资料图片)

一、日本6大类23种半导体设备出口管制清单

2023年5月23日，日本正式出台针对23种半导体制造设备（或物项）的出口管制措施，并将于7月23日开始实施。

清单主要针对高端半导体制造设备，尤其是特别聚焦了ArF浸没式光刻、EUV配套设备及部件、钴/钨等金属沉积、高深宽比刻蚀和硅锗刻蚀等技术指标较高、材料特殊、在先进制程有针对性应用的半导体设备品种，而光刻胶等日本优势的半导体材料则未在限制行列之中。

具体这6大类23种半导体制造设备（或物项）主要包括：

1、光刻（4项）：ArF浸没式光刻机、用于EUV光刻的涂胶显影设备、用于EUV光刻的光罩护膜（清单中唯一一种非设备品种，用于EUV光罩的配套）及其生产设备。其中EUV光刻机（仅荷兰ASML提供）的采购国内长期受限，日本限制EUV配套产品对中国大陆没有实质影响，而ArF浸没式光刻机日本尼康有相关产品，未来需观察许可实际发放情况。

2、刻蚀（3项）：高深宽比刻蚀、硅锗刻蚀等。

3、薄膜沉积（11项）：用于钴、钨、钼、钌等金属薄膜、Contact层、Low-k等介质、掩膜版、硅和硅锗外延等沉积的PVD/CVD/ALD/EPI薄膜沉积设备。

4、热处理（1项）：用于铜、钴、钨的低压退火设备。

5、清洗（3项）：铜膜清洗、干法清洗、晶圆改性后干燥的单片湿法清洗。

6、检测（1项）：EUV光刻掩膜版检测设备。

附：日本6大类23种半导体设备出口管制清单，及国产替代厂商。

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龙虎榜焦点股解析

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参考资料：

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